國產光刻機與荷蘭ASML光刻機的具體差距有哪些?

　　當美國斷供我們的芯片時，我們有華為，展訊，紫光，中芯微；當美國限制臺積電不給我們代工芯片時，我們還有中芯國際可以頂一頂，雖然工藝落后了一點；當美國限制ASML的光刻機賣給我們時，我們束手手策。光刻機，是我們芯片產業中最大的痛！那么，國產光刻機與荷蘭ASML光刻機，究竟有多少差距？

　　如果沒有芯片，就制造不出手機；而如果沒有光刻機，就制造不出芯片；說起光刻機，可能很多人都不知道是什么東西。其實，光刻機就是制造芯片的機器設備，如果沒有光刻機，就無法生產芯片。

　　在工業領域中，最難做的事情并不是設計芯片，而是制造芯片。關于芯片設計的研究，全球多不勝數，有ARM，x86等大量架構可用，即便重新研發一個芯片架構也不算太難，例如RISC開源架構的初始研發團隊就只有幾十個人。而芯片制造就不同了，要把數十億晶體管集成在一塊幾毫米的芯片中，需要集成全球幾乎所有的高端設備技術以及相關人才。

　　光刻機是芯片制造最為重要的設備之一，被稱為現代光學工業之花，制造難度非常大，全世界只有少數幾家公司能夠制造，其售價高達7000萬美金。光刻機需要經歷很多復雜的工藝過程，包括試驗臺、曝光臺、激光器、光束校正器、能量控制器、光束形狀設定等，每一道工序都必須精益求精，需要上百個零件支撐操作，可以說是極其精確。

　　目前，擁有世界上最先進光刻機的公司是荷蘭的ASML（阿斯邁爾）公司，該公司壟斷平版印刷機，占據全球90%的市場份額。荷蘭的ASML確實不是一般的企業，早在2007年以前，在光刻機領域，尼康、佳能就是當時的王者，ASML則是不入流的跟隨者，ASML跟在尼康、佳能后面，徘徊了20年。

　　隨后，ASML抓住了臺積電的“浸潤式微影”技術，雙方一拍即合，就這樣，光刻機領域的霸主移位了，從此，尼康、佳能則是在光刻機市場一敗涂地，ASML則成為了現在半導體制造設備的絕對龍頭，尤其是在光刻機方面，更是無人敢與之爭鋒。荷蘭的ASML公司幾乎壟斷了全世界高端光刻機市場，而以中國目前的技術，只能制造中低端芯片，如果想要制造高端芯片，必須使用ASML的光刻機。

　　雖然在美國的打壓下，華為已經具備了芯片的自研和開發能力，也已經提前買斷了ARM的無限期使用權限，但所有人都看到，一旦臺積電拒絕為華為代工，華為的高端芯片業務將中斷。ASML公司壟斷了全世界的高端光刻機，中國一直以來都想掌握光刻機技術，但是上海微電子經過17年的努力，才造出90納米的光刻機，這已經十分不容易了，這可是0的突破。

那么，國產光刻機與荷蘭ASML光刻機，究竟有多少差距？

　　光刻機包含13個分系統，3萬個機械件，200多個傳感器。有頂級的鏡頭和光源，沒極致的機械精度，也是白搭。光刻機里有兩個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2納米以下，要知道一根頭發直徑有6萬納米。1毫米=1百萬納米，所以光刻機的精度要求幾乎是普通機床的百萬倍。目前ASML現在又要進擊了，目標：1納米！

　　而反觀國內，由于起步較晚，上海微電子裝備公司在起步晚、技術薄弱的情況，還是研發生產了90納米制程的光刻機。近期更是迎來了研發生產出22納米的光刻機，代表國產光刻機的最高技術。雖然和ASML在技術上還有很大的差距，但是只要行動起來，有一群甘心研發的人，總會有趕超的那一天。你覺得呢？

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