光刻機是什么?光刻機有什么作用?

作者:電工吧 日期:2020-06-30 13:49:53 人氣: 欄目:行業資訊

  光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個圖形(工藝);在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

光刻機是什么?光刻機有什么作用?(圖1)

光刻機生產集成電路的簡要步驟

  1. 利用模版去除晶圓表面的保護膜。

  2. 將晶圓浸泡在腐化劑中,失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。

  3. 用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質。


其中曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。


一片晶圓可以制作數十個集成電路,根據模版曝光機分為兩種:

  1. 模版和晶圓大小一樣,模版不動。

  2. 模版和集成電路大小一樣,模版隨曝光機聚焦部分移動。


其中模版隨曝光機移動的方式,模版相對曝光機中心位置不變,始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度,成為的主流 。

光刻機品牌

  光刻機的品牌眾多,根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類:

  高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花,其制造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。

  位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機,形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發制作工作。

  生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機,分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。


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